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中国科大发明晶体“自刻蚀”新工艺 实现低维光伏材料精密制备

文章来源:今日头条 编辑:商城众网 发表时间:2026年01月15日 0

大皖新闻讯 1月15日凌晨,大皖新闻记者从中国科学技术大学获悉,该校张树辰特任教授团队联合中外学者,在新型半导体材料领域取得重要进展。团队首次在二维离子型软晶格材料中,实现了面内可编程、原子级平整的“马赛克”式异质结可控构筑,为未来高性能发光和集成器件的研发开辟了全新路径,相关成果于北京时间1月15日在线发表于国际权威学术期刊《自然》(Nature)。

面对挑战创新性提出“自刻蚀”

相关人员称,在半导体领域,能够在材料平面内横向精准构建异质结构,是探索新奇物性、研发新型器件及推动器件微型化的关键。然而,以二维卤化物钙钛矿为代表的离子型软晶格半导体,其晶体结构柔软且不稳定,传统光刻加工等技术往往因反应过于剧烈而破坏材料结构,难以实现高质量的横向异质集成。如何在此类材料中实现高质量、可控外延的横向异质结精密加工,是该领域面临的重要科学难题。

记者了解到,面对这一挑战,中国科大研究团队独辟蹊径,创新性地提出并发展了一种引导晶体内应力“自刻蚀”新方法。研究人员发现,二维钙钛矿单晶在生长过程中会自然累积内部应力,团队巧妙设计了一种温和的配体-溶剂微环境,能够选择性地激活并利用这些内应力,引导单晶在特定位置发生可控的“自刻蚀”,从而形成规则的方形孔洞结构。随后,通过快速外延生长技术,将不同种类的半导体材料精准回填,最终在单一晶片内部构筑出晶格连续、界面原子级平整的高质量“马赛克”异质结。

内应力驱动的二维钙钛矿面内刻蚀与图案化策略

精密“自我组装”突破传统工艺局限

“这种全新的加工方法。不是通过‘拼接’不同材料,而是在同一块完整晶体中,引导它自身进行精密的‘自我组装’,”张树辰解释道,“这意味着,未来我们有可能在一块极薄的材料上,直接‘生长’出密集排列的、能发出不同颜色光的微小像素点,为未来的高性能发光与显示器件的发展,提供一种全新的备选材料体系和设计思路。”

此项研究首次在二维离子型材料体系中,实现了对横向异质结结构的高质量、可设计性构筑,突破了传统工艺的局限。其展现的驾驭晶体内应力与动力学新范式,实现了单晶内部功能结构的可编程演化,为研究理想化界面物理提供了全新平台,也为低维材料的集成化与器件化开辟了新的路径。

审稿人对该工作做出高度评价,认为“这是一项出色的研究,它通过基于溶液的技术,巧妙地利用了二维钙钛矿的软离子晶格特性,对该领域做出了重要贡献。”

大皖新闻记者 魏鑫鑫 (图片来自中国科大)

编辑 崔恒

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